抛光液主要分类

抛光液它是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，那就是抛光液了，它具有良好的去油污、防锈、清洗和增光性能，还能使金属制品显露出真实的金属光泽。有着性能稳定、无毒，对环境无污染等作用。

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：

● 金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、

● 氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、

● 氧化铈抛光液、

● 氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

多晶金刚石抛光液

　　多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

　　主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液

　　氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

　　广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液

　　氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

　　适用于高精密光学仪器，光学镜头,微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液

　　是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。

　　主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。